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类别
品名
英文名
分子式
级别
AR
EL
MOS
CMOS
RM-A
RM-B


过氧化氢 Hydrogen Peroxide H2O2
硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
盐酸 Hydrochloric Acid HCl
硝酸 Nitric Acid HNO3
发烟硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
氢氟酸 Hydrofluoric Acid HF
冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
氢氧化铵 Ammonium Hydroxide NH4·OH
氟化铵 Ammonium Fluoride,40% NH4F
氢氧化钾溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
氢氧化钠溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH


氟化铵腐蚀液(BOE) Amnonium Fluoride Etchants NH4F·HF
铝腐蚀液(PES) Aluminum Etchants H3PO4·HNO3·CH3COOH
铬腐蚀液 Chrome Etchant  
铜腐蚀液 Copper Etchant  
Ito腐蚀液 Ito Etchant  
镍银腐蚀液 Nickel And Silver Etchant  
金腐蚀液 Gold Etchant  
压点腐蚀液 Press Dot Etchant  
硅腐蚀液(MAE) Silicon Etchants HNO3·HF·CH3COOH
混合酸3F Mixed Acid 3F  
混合酸4F Mixed Acid 4F  

甲醇 Methanol CH3OH
乙醇 Ethanol C2H5OH
异丙醇(点击进入详细信息) IPA CH3CHOHCH3
丙酮 Acetone (CH3)2CO
醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
甲苯 Toluene C6H5CH3
二甲苯 Xylenes C8H10
三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
1.1.1三氯乙烷 1.1.1—Trichloroethane CH3CCl3
环已烷 Cyclohexane C6H12




去毛剂 Depilitant  
漂洗液    
剥离液 Peel Off Liquid  
光刻胶配套试剂    
正胶显影液 Positive Develop  
负胶显影液 Negative Develop  
硅片高纯清洗剂 RMT-6  
硅酸钠 Sodium silicate  
松油醇 Terpilenol C10H18O
根据客户需求,可配制其它特定化学品。