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半导体创新产品和技术再次喜获丰收
文章来源:总经办  发布时间:2017/3/28

      日前,在2017中国半导体市场年会暨第六届集成电路产业创新大会上,我公司产品“高纯铝蚀刻液” 被评为“第十一届(2016年度)中国半导体创新产品和技术项目”之殊荣。截止目前,我公司产品共有4个已获得该类别荣誉。

    “高纯铝蚀刻液”属于半导体行业专用材料,可应用于半导体元件中电子部件的配线形成,起蚀刻作用,可有效解决蚀刻液在蚀刻铝材料过程中对蚀刻速率、难以控制蚀刻角度和不同金属层的蚀刻量而造成的配线短路、短路等问题。
      目前该产品技术已获授权发明专利1件、实用新型专利1件。公司作为第一起草单位,以该项目产品为基础起草制定了行业标准两项《集成电路用铝腐蚀液》和《液晶显示器用铝腐蚀液》。该产品技术水平已达到国内领先、国际先进水平,填补了该领域国内空白,打破了国外技术的垄断,对我国在微电子行业电子化学品的加工生产技术起到了示范作用。产品可替代进口,降低生产成本,具有显著的经济效益和社会效益。该产品自面市以来一直倍受江阴长电先进封装有限公司、杭州士兰集成电路有限公司等客户的一致青睐。